[实用新型]一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管有效
| 申请号： | 201420083032.8 | 申请日： | 2014-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN203846097U | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周航锋;贺伟;侍进山;徐博文;李景;李信;陈武;万禄兵 | 申请（专利权）人： | 湖南中好科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南省娄底市兴娄专利事务所 43106 | 代理人： | 朱成实 |
| 地址： | 410604 湖南省长沙市*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管，所述的工艺气管由若干组气嘴组件构成，气嘴组件通过气嘴管连接在四通接头上，四通接头通过气管连接在气源上。本实用新型的优点在于：结构简单、操作方便，可全方位调整气嘴角度，且溅射效果好、使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 磁控溅射 均匀 工艺 气管 | ||
【主权项】：
一种用于提高磁控溅射膜均匀性的工艺气管，其特征在于：所述的工艺气管由若干组气嘴组件（3）构成，气嘴组件（3）通过气嘴管（5）连接在四通接头（4）上，四通接头（4）通过气管（2）连接在气源（1）上；气嘴组件（3）包括有气嘴（6）、旋转管（7）、旋转座（8）、气嘴接头（9），其中，气嘴接头（9）通过气嘴管（5）连接在四通接头（4）上，旋转座（8）固装在气嘴接头（9），旋转管（7）底部套装在旋转座（8）内，旋转管（7）顶部与气嘴（6）连接。
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