[实用新型]一种激光沉积与原位退火系统有效
| 申请号： | 201420097281.2 | 申请日： | 2014-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN203715715U | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 陈江博;成军;孔祥永 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜制备技术领域，公开了一种激光沉积与原位退火系统，该系统的真空腔体的侧壁上设置有两个激光入射窗口，并设置薄膜沉积和退火工艺中所需的光学组件。在薄膜沉积工艺中，激光经过对应的光学组件后，通过其中一个激光入射窗口照射到靶材上，进行薄膜沉积。在薄膜退火工艺中，激光经过对应的光学组件后，通过另一个激光入射窗口照射到基板上，进行薄膜退火。从而可以通过一套真空设备完成薄膜沉积和退火工艺，降低了生产成本。同时，由于在一个真空腔体内完成薄膜沉积后直接进行激光退火工艺，基板并不接触大气，减少了大气中的颗粒对成膜的影响，也把水汽等会劣化薄膜性能的气体吸附降到最低，提高了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 沉积 原位 退火 系统 | ||
【主权项】：
一种激光沉积与原位退火系统，包括：真空腔体；第一光学组件；靶材承载装置和基板承载装置，设置在所述真空腔体内；所述真空腔体的侧壁上具有第一激光入射窗口，在薄膜沉积工艺中，激光经过第一光学组件后，通过第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承载装置上的靶材上，其特征在于，所述真空腔体的侧壁上还具有第二激光入射窗口；所述系统还包括第二光学组件，在薄膜退火工艺中，激光经过第二光学组件后，通过第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承载装置上的基板上。
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