[实用新型]磁控溅射镀膜生产线

摘要

本实用新型公开一种磁控溅射镀膜生产线，包括机座及设于机座的传输装置、上料区、真空加工室组、下料区和回传线路，上料区、真空加工室组、下料区及回传线路呈环形顺次相连设置且形成连续循环运行的加工环路，传输装置呈连续循环运行的设于加工环路；真空加工室组包含沿传输装置的传输方向顺次相连设置的进料室、前过渡室、前缓冲室、一号镀膜室、二号镀膜室、三号镀膜室、后缓冲室、后过渡室及出料室，一号、二号及三号镀膜室内均设有靶材，一号、二号及三号镀膜室外均设有可移动的且靠近于所对应的靶材的磁体及用于调节磁体的调节机构，调节机构包含移磁调节组件及均磁调节组件，移磁调节组件及均磁调节组件均与磁体连接。

主权项

一种磁控溅射镀膜生产线，适用于对基片进行镀膜加工，其特征在于，包括机座及设于所述机座的传输装置、上料区、真空加工室组、下料区和回传线路，所述上料区、真空加工室组、下料区及回传线路呈环形顺次相连设置且形成连续循环运行的加工环路，所述传输装置呈连续循环运行的设于所述加工环路；所述真空加工室组包含沿传输装置的传输方向顺次相连设置的进料室、前过渡室、前缓冲室、一号镀膜室、二号镀膜室、三号镀膜室、后缓冲室、后过渡室及出料室，所述一号镀膜室、二号镀膜室及三号镀膜室内均设有靶材，所述一号镀膜室、二号镀膜室及三号镀膜室外均设有可移动的且靠近于所对应的所述靶材的磁体及用于调节所述磁体的调节机构，所述调节机构包含移磁调节组件及均磁调节组件，所述移磁调节组件及均磁调节组件均与所述磁体连接，通过所述移磁调节组件驱使所述磁体相对所述靶材沿平行于所述靶材的方向做平移调节操作，通过所述均磁调节组件驱使所述磁体弯曲以调节所述磁体两端与所述靶材的距离；所述基片于所述上料区处装载于所述传输装置，所述传输装置承载所述基片顺次传输于所述进料室、前过渡室、前缓冲室、一号镀膜室、二号镀膜室、三号镀膜室、后缓冲室、后过渡室及出料室以完成基片的镀膜加工，所述基片于所述下料区处从所述传输装置上卸下，所述传输装置经所述回传线路回传至所述上料区。