[实用新型]摆动系统和刻蚀装置有效
| 申请号： | 201420105996.8 | 申请日： | 2014-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN203715725U | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 王其辉;于凯;李伟;宋泳珍;白忠飞;董志学;郑云亮;寇克瑜;孙鹏;陈程 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种摆动系统和刻蚀装置，该摆动系统包括驱动装置、转动板和转轴，所述驱动装置的输出轴与转动板连接，所述转轴的一端通过一连接件与所述转动板的两侧铰接。本实用新型的转轴与转动板的两侧相铰接，受力均衡，不会出现受力向一个方向偏离的问题，使得转动板的受力方向与转轴的摆动方向在一个平面上，因此，有效地避免了转动板和转轴之间由于受力方向的问题造成脱扣的可能性，从而确保了湿法刻蚀工艺步骤的正常进行。 | ||
| 搜索关键词： | 摆动 系统 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
一种摆动系统，其特征在于，包括驱动装置、转动板和转轴，所述驱动装置的输出轴与转动板连接，所述转轴的一端通过一连接件与所述转动板的两侧铰接。
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