[实用新型]一种用于半导体厂房的洁净室有效

专利信息
申请号: 201420120184.0 申请日: 2014-03-18
公开(公告)号: CN203783198U 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 杨政谕 申请(专利权)人: 亚翔系统集成科技(苏州)股份有限公司
主分类号: E04H5/02 分类号: E04H5/02;F24F7/10
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 陆金星
地址: 215126 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于半导体厂房的洁净室,包括一大型洁净空间及回风通道;大型洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间,所述循环空间内设有生产辅助设备;所述循环空间内设置生产辅助设备的区域的四周均设有隔板,使其构成独立的密闭空间;在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有至少1个回风柱,所述回风柱的顶端与架构空间连通,其底端与高架地板连通;所述回风柱内设有风机。本实用新型解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题;与此同时,在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多个回风柱,通过回风柱实现气流循环,同时还充分利用了其内的洁净空气,而且降低了消耗。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 厂房 洁净室
【主权项】:
一种用于半导体厂房的洁净室,包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道;所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6),架构空间和洁净空间之间设有天花板(7),洁净空间和循环空间之间设有高架地板(2)和混凝土板(3);所述循环空间内设有生产辅助设备;其特征在于:所述循环空间内设置生产辅助设备的区域的四周均设有隔板(8),使其构成独立的密闭空间;循环空间内还设有连通管,连通管的一端与所述密闭空间连通,另一端与洁净室的外界连通;在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有至少1个回风柱(9),所述回风柱的顶端与架构空间连通,其底端与高架地板连通;所述回风柱内设有风机(10)。
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