[实用新型]一种高真空磁控轴瓦溅镀机

摘要

本实用新型公开了一种高真空磁控轴瓦溅镀机，涉及溅渡装置技术领域，结构包括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，溅渡腔设有溅射靶和轴瓦支撑架，溅渡壳体底部设有底座，底座上设有溅射靶架旋转轴，溅射靶架旋转轴固定设有用来活动放置溅射靶的溅射靶支撑架，所述溅射靶为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，溅射靶支撑架中间固定连接有溅射靶架旋转轴，两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板10，所述挡板边缘设有与溅射靶支撑架3两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架包括轴瓦支架旋转轴和活动装设在轴瓦支架旋转轴上用来悬挂轴瓦的挂柱，本种溅镀方式是安全环保的，通过设置可旋转的两面靶，解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。

主权项

一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1），溅渡壳体（1）内设有溅渡腔（2），所述溅渡腔（8）设有溅射靶（2）和轴瓦支撑架（4），所述溅渡壳体（1）底部设有底座（7），其特征在于：在所述，所述底座（7）上设有溅射靶架旋转轴（6），所述溅射靶架旋转轴（6）固定设有用来活动放置溅射靶（2）的溅射靶支撑架（3），所述所述溅射靶（2）为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架（3）中间固定连接有溅射靶架旋转轴（6），两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板（10），所述挡板（10）边缘设有与溅射靶支撑架（3）两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架（4）包括轴瓦支架旋转轴（5）和活动装设在轴瓦支架旋转轴（5）上用来悬挂轴瓦的挂柱（9）。