[实用新型]隔离结构及装载装置有效
| 申请号： | 201420147567.7 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203894531U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 毛晓峰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种隔离结构，隔板可以通过控制杆的转动而移动。为更好地将此可活动的隔离结构运用到光罩装载中，本实用新型还提供了一种装载装置，用于光罩的装载。实现了先放置好所有光罩，再推动所述把手带动所述控制杆而使得隔板插入光罩间的间隙中，起到隔离作用，即通过隔离解决了光罩倒塌造成成批光罩损毁的问题，也有效防止了隔离板刮伤光罩。 | ||
| 搜索关键词： | 隔离 结构 装载 装置 | ||
【主权项】：
一种隔离结构，其特征在于：包括隔板和控制杆，所述控制杆的一端固设于所述隔板上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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