[实用新型]一种半导体激光合成器治疗仪

摘要

本实用新型是一种半导体激光合成器治疗仪，包括：半导体激光合成器和控制系统，半导体激光合成器（11）包括：激光介质晶体（4）、半导体激光器（1）、光学耦合系统(2)、反射镜（3）和输出镜（5）、倍频晶体（6）、反馈镜（7），传输光纤（9）和聚焦透镜（8）；激光介质晶体（4）、反射镜（3）和输出镜（5）组成激光谐振腔，倍频晶体（6）放置于输出镜（5）和反馈镜（7）之间，聚焦透镜（8）设置于反馈镜之后；控制系统包括：电源模块（13），半导体激光合成器稳定工作模块（14）及系统控制模块（12）。本实用新型采用腔外倍频加基波反馈技术并结合电路控制系统，很好地实现了效率和稳定性兼顾的目的。可有效用于光动力学治疗，对鼻腔或穴位进行激光照射，用于血管性头痛和脑梗塞、脑外伤后遗症及慢性心、脑血管疾病的治疗。

主权项

一种半导体激光合成器治疗仪，包括：半导体激光器和控制系统，其特征在于， 半导体激光器为半导体激光合成器(11)包括：激光介质晶体(4)、用于泵浦激光介质晶体的半导体激光器(1)、将半导体激光器(1)输出的激光聚焦到激光介质晶体(4)上的光学耦合系统(2)、使激光介质受到半导体激光激发后，产生粒子数反转，从而在谐振腔之间产生基波激光振荡的反射镜(3)和输出镜(5)、将输出镜(5)输出的谐波激光倍频为红光激光的倍频晶体(6)、将未倍频的谐波激光反射回激光谐振腔，并输出产生的用于治疗的红光激光的反馈镜(7)，用于将输出的红光激光聚焦到传输光纤(9)的端面，并通过该光纤传输到治疗部位，进行治疗的聚焦透镜(8)；激光介质晶体(4)、反射镜(3)和输出镜(5)组成激光谐振腔，倍频晶体(6)放置于输出镜(5)和反馈镜(7)之间，聚焦透镜(8)设置于反馈镜之后； 控制系统包括： 电源模块(13)，与半导体激光合成器(11)相连，提供所述半导体激光合成器所需工作电源； 半导体激光合成器稳定工作模块(14)，与半导体激光合成器(11)、电源模块(13)和系统控制模块(12)相连，控制整个系统的稳定输出功率； 系统控制模块(12)，与电源模块(13)和半导体激光合成器稳定工作模块(14)相连，控制整个系统工作。