[实用新型]应力迁移测试结构有效
| 申请号： | 201420235204.9 | 申请日： | 2014-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN203895445U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 胡永锋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种应力迁移测试结构，在对连接第n层金属互连线与第n-1层金属互连线的通孔阻值进行测试时，通过将第n层金属互连线与第1层金属互连线间的所有通孔阻值减去第n-1层金属互连线与第1层金属互连线间的所有通孔阻值实现，由此能避免由于通孔阻值过小而不能精确判断应力迁移情况的问题，该方案对提高UTM，RDL等新工艺中的大尺寸小电阻的通孔的应力迁移表征的精确度尤高。此外，n层金属互连线的测试中，仅需2n个测试信号接入点，相对于现有的需要4(n-1)个测试信号接入点而言，减少了测试信号接入点，从而减少了对于晶圆切割道的占用。同时可以连接不同的信号接入端，实现部分和整体通孔应力水平的表征。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 迁移 测试 结构 | ||
【主权项】：
一种应力迁移测试结构，其特征在于，包括：n层金属互连线，每层金属互连线两端各连接一测试信号接入点，每相邻两层金属互连线之间通过一通孔连接，其中，n为大于等于2的整数。
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