[实用新型]一种用于管式PECVD的进气装置有效
| 申请号： | 201420301189.3 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN203923368U | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 韩帅君;勾宪芳 | 申请（专利权）人： | 中节能太阳能科技（镇江）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 徐莹 |
| 地址： | 212000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于管式PECVD的进气装置，石墨舟置于炉管中，紧贴炉管外壁设有弧形进气管，弧形进气管沿炉管壁表面设有直通炉内的进气小孔，所述进气小孔正对石墨舟上的石墨舟片之间的缝隙，所述弧形进气管上设有总进气管；本实用新型可以使特气通过总进气管进入炉管上的弧形进气管中，在弧形进气管中进行再分布，然后通过进气小孔进入炉管内的石墨舟，均匀的充斥在石墨舟片之间的缝隙中，在硅片表面均匀分布，能够一定程度上减少PECVD色差片的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pecvd 装置 | ||
【主权项】：
一种用于管式PECVD的进气装置，其特征在于：石墨舟置于炉管中，紧贴炉管外壁设有弧形进气管，弧形进气管沿炉管壁表面设有直通炉内的进气小孔，所述进气小孔正对石墨舟上的石墨舟片之间的缝隙，所述弧形进气管上设有总进气管。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
