[实用新型]真空装置有效
| 申请号： | 201420307421.4 | 申请日： | 2014-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN203960327U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 约亨·克劳瑟 | 申请（专利权）人： | 冯·阿登纳有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 杨生平;钟锦舜 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空装置。根据不同的实施方式，真空装置(100)可具有：真空室(102)，设置成在真空中处理基体(200)；以及至少一个通道(104)，设置成使基体(200)进入真空室(102)和/或从真空室(102)中出来，其中，该至少一个通道(104)具有至少一个元件(106)，该至少一个元件这样地可移动地布置和设置，即，至少一个通道(104)的通过开口(105)的尺寸(109)可改变，从而使基体(200)进入该元件(106)的不同打开位置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种真空装置，其特征在于，具有： 真空室(102)，设置成在真空中处理基体(200)；以及 至少一个通道(104)，设置成使基体(200)进入真空室(102)和/或从真空室(102)中出来，其中，该至少一个通道(104)具有至少一个元件(106)，该至少一个元件这样地可移动地布置和设置，即，至少一个通道(104)的通过开口(105)的尺寸(109)可改变，从而使基体(200)进入该元件(106)的不同打开位置。
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