[实用新型]一种光流体微纳器件动态加工装置有效
| 申请号： | 201420316152.8 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN203941381U | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 郁敏;南学芳;杨杰;高秀敏 | 申请（专利权）人： | 高秀敏 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 200433 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光流体微纳器件动态加工装置，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、与空间光调制控制器连接的空间光调制器、聚焦物镜以及光流体模块，所述的光源出射光束依次经过光束整形器件、空间光调制器、聚焦物镜以及光流体模块。本实用新型的一种光流体微纳器件动态加工装置具有过程步骤少工艺简单，制作装置简单成本低，可以加工不同形状微纳器件，并能够进行不同微纳器件动态实时调整，便于微纳器件进行后续自组装处理等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流体 器件 动态 加工 装置 | ||
【主权项】：
一种光流体微纳器件动态加工装置，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、聚焦物镜以及光流体模块，其特征在于，所述的光束整形器件和所述的聚焦物镜之间还设有用于调整所述光源出射光束光斑形状的空间光调制器，所述空间光调制器还连接有空间光调制控制器。
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