[实用新型]一种渐进式金属层的金属化膜有效

专利信息
申请号: 201420319251.1 申请日: 2014-06-16
公开(公告)号: CN203931821U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 宋仁祥 申请(专利权)人: 安徽省宁国市海伟电子有限公司
主分类号: H01G4/015 分类号: H01G4/015
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 242300 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及一种渐进式金属层的金属化膜,所述金属化膜包括:基膜和金属蒸镀膜,金属蒸镀膜仅设置在基膜一侧的表面上并未完全覆盖,在基膜上留有空白的屏带,所述屏带的宽度为:1~3mm;所述金属蒸镀膜至少包括锌基层,锌基层远离屏带处的厚度越厚,靠近屏带处的厚度越薄。本实用新型所述金属化膜,采用渐进式金属化膜,防止靠近留边处的金属化膜被击穿,且采用波浪分切结构,其卷绕成的电容芯体与金属化层接触面积相对直线分切膜增大,大大减小了接触电阻,提高了其耐脉冲和大电流的能力,避免了电容器的失效,满足实际使用要求,实施效果好。
搜索关键词: 一种 渐进 金属 金属化
【主权项】:
一种渐进式金属层的金属化膜,其特征是,所述金属化膜包括:基膜(10)和金属蒸镀膜(20),金属蒸镀膜(20)仅设置在基膜(10)一侧的表面上并未完全覆盖,在基膜(10)上留有空白的屏带(11),所述屏带(11)的宽度为:1~3mm;所述金属蒸镀膜(20)至少包括锌基层(22),锌基层(22)远离屏带(11)处的厚度越厚,靠近屏带(11)处的厚度越薄。
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