[实用新型]长晶炉使用之钨坩埚修整装置有效
申请号: | 201420362147.0 | 申请日: | 2014-07-02 |
公开(公告)号: | CN204039495U | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 刘崇志;周斌;钟其龙;王晓靁;刘伯彦 | 申请(专利权)人: | 厦门润晶光电有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/14 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人: | 李宁 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开一种长晶炉使用之钨坩埚修整装置,包括反应室、加热器和反应气管;反应室具CVD(chemicalvapordeposition化学蒸汽沉积)腔体,反应室的上方安装反应气管,反应气管的一端伸露在CVD腔体外用于连接供气管,而反应气管的另一端伸入CVD腔体内且该端上开设若干气孔,反应室的下方开设排废口,排废口通过管道连接至泵;加热器置于CVD腔体中,加热器安装在由电机带动旋转的柱子上,加热器上具有供坩埚旋转的置物台。本实用新型可以修补因重复使用变薄的钨坩埚,让变薄的坩埚壁加厚,回复其原本之保温效果,减少能耗的问题。 | ||
搜索关键词: | 长晶炉 使用 坩埚 修整 装置 | ||
【主权项】:
长晶炉使用之钨坩埚修整装置,其特征在于:包括反应室、加热器和反应气管;反应室具CVD腔体,反应室的上方安装反应气管,反应气管的一端伸露在CVD腔体外用于连接供气管,而反应气管的另一端伸入CVD腔体内且该端上开设若干气孔,反应室的下方开设排废口,排废口通过管道连接至泵;加热器置于CVD腔体中,加热器安装在由电机带动旋转的柱子上,加热器上具有供坩埚旋转的置物台。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的