[实用新型]具有保护层的干刻蚀外盖结构有效
| 申请号： | 201420375228.4 | 申请日： | 2014-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN203941940U | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 林士青;黄绣智;陈宜杰;罗世欣 | 申请（专利权）人： | 聚昌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型有关于一种具有保护层的干刻蚀外盖结构，其包括：外盖本体；以及保护层。外盖本体并具有多个刻蚀孔，在干刻蚀工艺中，外盖本体用以遮盖多个干刻蚀目标物，并自每一个刻蚀孔露出一个干刻蚀目标物。借由本实用新型的实施，可以避免干刻蚀工艺中使用的刻蚀药剂与外盖本体的材质产生化学反应而降低了刻蚀效率。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 保护层 刻蚀 结构 | ||
【主权项】：
一种具有保护层的干刻蚀外盖结构，其特征在于包括：外盖本体，其具有多个刻蚀孔，该外盖本体遮盖在多个干刻蚀目标物上方，并自每一个该刻蚀孔露出一个该干刻蚀目标物；以及保护层，形成于该外盖本体的表面及每一个该刻蚀孔的孔壁。
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