[实用新型]溅射阴极装置有效
| 申请号： | 201420436010.5 | 申请日： | 2014-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN204080100U | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 卞楷周 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;郑特强 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 阴极 装置 | ||
【主权项】：
一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其特征在于，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。
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