[实用新型]一种带分压环结构的片上高压电阻有效
申请号: | 201420446271.5 | 申请日: | 2014-08-08 |
公开(公告)号: | CN204067364U | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
发明(设计)人: | 朱伟民;马晓辉 | 申请(专利权)人: | 无锡市晶源微电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L23/522 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李琰 |
地址: | 214028 江苏省无锡市无锡国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带分压环结构的片上高压电阻,包括P衬底、低掺杂N型深阱区、PW环以及P+环;在所述P衬底、低掺杂N型深阱区、PW环的上表面还生长有场氧;在低掺杂N型深阱区上表面场氧的上方中部设置有第一Poly和第二Poly,第一Poly和第二Poly不贴合,在所述P衬底上还扩散有第一NW环和第二NW环,所述第一、第二NW环设置于场氧的下方,具体位置为低掺杂N型深阱区的外围、PW环之内,并且,第一NW环和低掺杂N型深阱区不贴合,第二NW环和PW环不贴合,第一NW环和第二NW环不贴合;第二Poly通过电阻内部连接端与第一Poly相连。本实用新型能够针对性的满足在高压环境下工作的AC-DC电路的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 带分压环 结构 高压 电阻 | ||
【主权项】:
一种带分压环结构的片上高压电阻,包括P衬底、扩散在P衬底上中心位置的低掺杂N型深阱区、扩散在P衬底上低掺杂N型深阱区周围的PW环以及扩散在PW环上且处于PW环内部的P+环;在所述P衬底、低掺杂N型深阱区、PW环的上表面还生长有场氧;在低掺杂N型深阱区上表面场氧的上方中部设置有第一Poly,在所述第一Poly的周围设置有第二Poly,第一Poly和第二Poly不贴合,其特征在于:在所述P衬底上还扩散有第一NW环,第一NW环的周围还扩散有第二NW环,所述第一、第二NW环设置于场氧的下方,具体位置为低掺杂N型深阱区的外围、PW环之内,并且,第一NW环和低掺杂N型深阱区不贴合,第二NW环和PW环不贴合,第一NW环和第二NW环不贴合;所述第二Poly作为为高压电阻的电阻体,第二Poly通过电阻内部连接端与第一Poly相连,第二Poly通过电阻外部连接端与集成电路的低压模块相连。
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