[实用新型]能改变靶表面磁通量的磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201420450696.3 | 申请日： | 2014-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN204058587U | 公开（公告）日： | 2014-12-31 |
| 发明（设计）人： | 徐根保;杨勇;金克武;蒋继文;张宽翔;曹欣;姚婷婷 | 申请（专利权）人： | 中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 王法男 |
| 地址： | 200061 上海市普*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种能改变靶表面磁通量的可移动磁控溅射靶，包括靶材组件和磁体组件，所述靶材组件和所述磁体组件之间可以相对运动。本实用新型的能改变靶表面磁通量的可移动磁控溅射靶，由于有电子控制单元，磁体组件水平和垂直方向的运动速率可调，可精确控制磁体组件的位置；当磁体组件做水平方向运动时，相应的磁体在靶材表面所产生的“拱形”磁场在靶材表面来回移动，导致刻蚀区域变宽，不会产生固定的“V”型刻蚀沟，大大提高了靶材的利用率；当使用不同靶材镀膜时，磁体组件可以垂直方向运动，相应的靶表面磁通量也得到了调整，使不同靶材在镀膜时得到最佳的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 改变 表面 磁通量 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种能改变靶表面磁通量的可移动磁控溅射靶，包括靶材组件和磁体组件，其特征在于，所述靶材组件和所述磁体组件之间可以相对运动。
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