[实用新型]一种长寿命磁控溅射靶材有效
| 申请号： | 201420452183.6 | 申请日： | 2014-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN204097558U | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 罗俊锋;刘书芹;万小勇;董亭义;何金江;于海洋;刘冬青;吕保国 | 申请（专利权）人： | 有研亿金新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 102200*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种长寿命溅射靶材，包括溅射面和冷却面，所述溅射面的溅射区域在靶材原溅射区的基础上增厚2mm以内，增厚的部分小于靶材原溅射区域，且增厚部分的边缘与靶材原溅射区域之间呈台阶状或斜坡状。所述靶材原溅射区的厚度为5.8～6.2mm。本实用新型通过增加溅射区域厚度提高靶材使用寿命，未参与溅射的边缘保持原尺寸，这样可以避免影响靶材安装及整体的溅射性能。在靶材边缘为台阶结构或斜坡结构，其作用是防止在靶材溅射过程产生的反溅物质与机台阴极保护框接触而导致短路。本实用新型的有益效果是通过所述靶材的设计解决了溅射靶材使用寿命比较短、使用效率比较低与原材料浪费等问题，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 寿命 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种长寿命磁控溅射靶材，包括溅射面和冷却面，其特征在于，所述溅射面的溅射区域在靶材原溅射区的基础上增厚2mm以内，增厚部分的面积小于靶材原溅射区域，且增厚部分的边缘与靶材原溅射区域之间呈台阶状或斜坡状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于有研亿金新材料有限公司，未经有研亿金新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420452183.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种儿童用床单
- 下一篇：一株低温脱氮不动杆菌及其应用
- 同类专利
- 专利分类
