[实用新型]掩膜版及液晶显示模组有效
| 申请号： | 201420551864.8 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN204143152U | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 黄秋蓉;洪孟锋 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210033 江苏省南京市仙林大道科*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种掩膜版及液晶显示模组，该掩膜版包括至少一遮光区域和非遮光区域，非遮光区域在靠近遮光区域设有若干等间距交替分布的遮光部件和透光狭缝，该液晶显示模组包括所述的掩膜版。本实用新型通过在掩膜版上设置遮光部件，可改变紫外光传播路径，防止紫外光进入面板的显示区，进而防止不良的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 液晶显示 模组 | ||
【主权项】：
掩膜版，包括至少一遮光区域和非遮光区域，其特征在于：非遮光区域在靠近遮光区域设有若干等间距交替分布的遮光部件和透光狭缝。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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