[实用新型]用于磁控溅射设备的新型导轮有效
| 申请号： | 201420564039.1 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN204138752U | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 李连喜;周冬;刘光远;刘占伟;张加友;胡尚智 | 申请（专利权）人： | 山东淄博汉能光伏有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人： | 郭霞 |
| 地址： | 255000 山东省淄博市高新区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于磁控溅射设备的新型导轮，包括导轮本体，所述导轮本体套装于定位轴外，所述导轮本体的两侧表面分别设有第一环形凹槽和第二环形凹槽。本实用新型通过在导轮本体的两侧表面分别设置环形凹槽，使导轮本体表面被溅射的绕镀薄膜在环形凹槽处断开，直到绕镀薄膜的厚度超过环形凹槽的宽度一半以上才会导通，所以，本新型导轮能长时间阻断环形凹槽两边绕镀薄膜的连接，避免其绝缘性能下降，保证了产品膜面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁控溅射 设备 新型 导轮 | ||
【主权项】：
一种用于磁控溅射设备的新型导轮，包括导轮本体，所述导轮本体套装于定位轴外，其特征在于：所述导轮本体的两侧表面分别设有第一环形凹槽和第二环形凹槽。
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