[实用新型]一种电化学水垢去除装置有效
| 申请号： | 201420574938.X | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN204198535U | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 章明歅;章俊杰 | 申请（专利权）人： | 北京顺泰创新科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/06 | 分类号： | C02F9/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 102208 北京市昌平区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元，所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；设置于所述槽体的内部的隔膜；所述隔膜将槽体分为阴极室和阳极室；设置于所述槽体的内部的阳极；设置于所述阴极室内部的阴极和辅助电极；所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。随着电化学的进行，隔膜表面上会沉积水垢，水垢阻碍了离子通过隔膜的迁移，增加了电阻，降低了电流效率，需要对隔膜进行再生。本申请将阴极室排空，向阴极室中导入阳极液，然后接通作为阳极的辅助电极，阳极液在辅助电极附近产生氯气和盐酸，从而将隔膜表面的水垢清洗干净，隔膜得到原位再生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 水垢 去除 装置 | ||
【主权项】：
一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元，所述晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；设置于所述槽体内部的隔膜，所述隔膜将槽体分为阳极室和阴极室；设置于所述阳极室内部的阳极；设置于所述阴极室内部的阴极和辅助电极；所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。
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