[实用新型]一种板式PECVD的特气管路有效
申请号: | 201420598574.9 | 申请日: | 2014-10-16 |
公开(公告)号: | CN204162784U | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 王志勇;田娜;张大雨;王春燕;杨雄磊 | 申请(专利权)人: | 巨力新能源股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 保定市燕赵恒通知识产权代理事务所 13121 | 代理人: | 王葶葶 |
地址: | 072550*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种板式PECVD的特气管路,其包含三组气路,每组气路上设置两个质量流量控制器MFC,前面两组气路上每组设置两组特气孔,后面一组气路上设置四组特气孔,每组特气孔包含两个硅烷特气孔和一个氨气特气孔。该特气管路供给板式PECVD设备中每小组的气体流量更加均匀,也增加了设备工艺参数的调整范围,能够实现三层及更多层减反射膜的镀膜工艺,提高了电池的转化效率,且膜的颜色均匀性好,成品良率高,显著降低了电池片的生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 板式 pecvd 管路 | ||
【主权项】:
一种板式PECVD的特气管路,其特征在于:其包含三组气路,每组气路上设置两个质量流量控制器MFC,前面两组气路上每组设置两组特气孔,后面一组气路上设置四组特气孔,每组特气孔包含两个硅烷特气孔和一个氨气特气孔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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