[实用新型]薄膜蒸镀设备及薄膜蒸镀系统有效
| 申请号： | 201420614849.3 | 申请日： | 2014-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN204237860U | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 山佳卫;庄渊博;山佳逸峡 | 申请（专利权）人： | 山佳卫 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 上海市新村路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种薄膜蒸镀设备及薄膜蒸镀系统，所述薄膜蒸镀设备包括匹配箱、喂料单元、主室；其中，所述喂料单元的一端设置有匹配箱，其另一端设置有主室；所述匹配箱的内部设置有射频源及直流源，用于产生等离子；所述喂料单元用于提供蒸镀的源材料；所述主室，用于提供薄膜蒸镀的空间，通过利用匹配箱的内部设置射频源及直流源来使喂料单元中产生等离子实现对晶圆的薄膜蒸镀，提高了薄膜的均匀性。另一方面，在源材料与主室的内壁之间设置有保护罩单元，避免进行薄膜蒸镀时蒸镀的源材料贴到主室的内壁上的情况，减少了源材料的损耗，从而提高了源材料的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 设备 系统 | ||
【主权项】：
一种薄膜蒸镀设备，其特征在于，包括：匹配箱、喂料单元、主室；其中，所述喂料单元的一端设置有匹配箱，其另一端设置有主室；所述匹配箱的内部设置有射频源及直流源，用于产生等离子；所述喂料单元用于提供蒸镀的源材料；所述主室，用于提供薄膜蒸镀的空间。
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