[实用新型]化学机械抛光垫

摘要

本实用新型涉及一种化学机械抛光垫，包括背板层和抛光层，所述抛光层具有抛光面与非抛光面，所述抛光层具有中心区域以及外围区域；并且所述抛光层包括从所述抛光层延伸至所述背板层的支持面的中心通孔，以及位于中心区域并且与该中心通孔同心并且通过十字通道连通的多个环形凹槽，以及从所述环形凹槽向所述外围区域延伸的多个辐射凹槽，并且所述辐射凹槽在所述外围区域的外缘形成有分支凹槽。本实用新型所述的化学机械抛光垫，可以用于光学玻璃或树脂镜片，半导体硅或二氧化硅基片，以及其它电子器件所采用的介质材料基片或金属基片的抛光处理，而且有利于减少抛光表面的划痕数量，且有利于抛光基片的转移。

主权项

一种化学机械抛光垫，包括背板层和抛光层，所述背板层具有支持面和内表面；其特征在于：所述抛光层具有在抛光浆料存在的条件下对基片表面进行抛光的抛光面，与所述背板层内表面相粘结的非抛光面，所述抛光层具有中心区域以及位于所述中心区域外的外围区域；并且所述抛光层包括从所述抛光层的抛光面延伸至所述背板层的支持面的中心通孔，以及位于中心区域并且与该中心通孔同心并且通过十字通道连通的多个环形凹槽，以及从所述环形凹槽向所述外围区域延伸的多个辐射凹槽，并且所述辐射凹槽在所述外围区域的外缘形成有分支凹槽。