[实用新型]一种可阻隔X射线泄露的真空法兰有效

专利信息
申请号: 201420671898.0 申请日: 2014-11-12
公开(公告)号: CN204327684U 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 张黎源;张晓卫 申请(专利权)人: 核工业理化工程研究院
主分类号: F16B7/18 分类号: F16B7/18
代理公司: 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 代理人: 胡恩河
地址: 300180 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,包括通过螺栓连接的左法兰和右法兰,左法兰和右法兰中心均形成通孔,且左法兰通孔左侧和右法兰通孔右侧均可连接有管道或真空室,所述左法兰相对右法兰的一侧自内向外分别形成凸台和左法兰散射槽,所述右法兰相对左法兰的一侧自内向外分别形成密封圈槽、凹台和右法兰散射槽,其中凹台与凸台相对应,右法兰散射槽与左法兰散射槽相对应;密封圈置于密封圈槽内,且与密封圈槽紧配合。本实用新型结构简单、使用方便、成本低廉、容易加工,法兰接口处X射线的剂量可以达到安全水平。
搜索关键词: 一种 阻隔 射线 泄露 真空 法兰
【主权项】:
一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,包括通过螺栓(5)连接的左法兰(1)和右法兰(2),左法兰(1)和右法兰(2)中心均形成通孔,且左法兰(1)通孔左侧和右法兰(2)通孔右侧均连接有管道(4),其特征在于:所述左法兰(1)相对右法兰(2)的一侧自内向外分别形成凸台(6)和左法兰散射槽(8),所述右法兰(2相对左法兰(1)的一侧自内向外分别形成密封圈槽(10)、凹台(7)和右法兰散射槽(9),其中凹台(7)与凸台(6)相对应,右法兰散射槽(9)与左法兰散射槽(8)相对应;密封圈(3)置于密封圈槽(10)内,且与密封圈槽(10)紧配合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核工业理化工程研究院,未经核工业理化工程研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420671898.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top