[实用新型]离子注入均匀性调整装置以及离子注入装置有效
| 申请号： | 201420684644.2 | 申请日： | 2014-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN204167254U | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 陈策 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/317 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种离子注入均匀性调整装置以及离子注入装置，所述离子注入均匀性调整装置包括反馈控制系统、与所述反馈控制系统电连接的驱动装置、及由所述驱动装置根据所述反馈控制系统的反馈信息驱动从而使得基板相对离子束发生倾斜的基板夹持装置；若检测离子束上部分的剂量小于离子束下部分的剂量，所述驱动装置控制所述基板夹持装置带动基板上部分向靠近离子束方向倾斜；若检测离子束上部分的剂量大于离子束下部分的剂量，所述驱动装置控制所述基板夹持装置带动基板上部分向远离离子束方向倾斜，从而调节到达基板表面的离子密度，提高基板竖直方向上的注入均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 均匀 调整 装置 以及 | ||
【主权项】：
一种离子注入均匀性调整装置，其特征在于，包括：反馈控制系统、与所述反馈控制系统电连接的驱动装置、及由所述驱动装置根据所述反馈控制系统的反馈信息驱动从而使得基板相对离子束发生倾斜的基板夹持装置。
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