[实用新型]一种匀光结构有效
| 申请号： | 201420685112.0 | 申请日： | 2014-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN204256203U | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;杨佳翼;谢颂婷 | 申请（专利权）人： | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B1/11 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种匀光结构，包括：第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。由于第一介质层背离第一图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；在第一介质层上镀第一增透膜，增强了透射光的能量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 | ||
【主权项】：
一种匀光结构，其特征在于，包括：第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。
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