[实用新型]一种使用 SiC 衬底的氮化物 LED 外延结构有效
申请号: | 201420699226.0 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN204167345U | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 马亮;胡兵;李金权;裴晓将;刘素娟 | 申请(专利权)人: | 北京中科天顺信息技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构,包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。本实用新型在氮化物LED外延层与SiC衬底之制作一层或两层以上的二维衍生薄膜,使其既能保证氮化物外延层生长的顺利进行,又可以在剥离过程有助于衬底与外延层的分离,极大地简化了剥离过程,提高了良率、降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 sic 衬底 氮化物 led 外延 结构 | ||
【主权项】:
一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构,其特征在于:包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中科天顺信息技术有限公司,未经北京中科天顺信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420699226.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。