[实用新型]离子镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201420729936.3 申请日: 2014-11-29
公开(公告)号: CN204265830U 公开(公告)日: 2015-04-15
发明(设计)人: 石芳萍 申请(专利权)人: 深圳市炬宇泰科技有限公司
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型是一种离子镀膜设备。包括镀膜炉和镀膜平台,镀膜炉的外围设置有加热保温炉,加热保温炉的顶部设置有外开合顶窗,镀膜炉的顶部设置有内开合顶窗,镀膜炉内设置有离子源,镀膜炉内还设置有位于镀膜平台四周的膜料,离子源能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上;加热保温炉内设置有加热盘管。其优点在于,一方面,通过离子源发射等离子体加热膜料,使膜料成为膜料蒸汽,均匀镀在玻璃片上,另外一方面,膜料位于镀膜平台四周加热后蒸发效果好,有利于增强膜层强度,设置的加热保温炉,一方面可以起到加温作用,进一步增强镀膜强度,更重要的是可以在镀完膜后出炉过程中使其具有过渡作用,有利于提高镀膜强度和镀膜质量。
搜索关键词: 离子 镀膜 设备
【主权项】:
一种离子镀膜设备,包括镀膜炉(1)和设置在镀膜炉内的镀膜平台(2),其特征在于:所述镀膜炉(1)的外围设置有加热保温炉(3),加热保温炉(3)的顶部设置有由动力装置启闭的外开合顶窗(4),镀膜炉(1)的顶部设置有由动力装置启闭的内开合顶窗(5),所述镀膜炉(1)内设置有能够发射等离子体的离子源(6),玻璃片能够从外开合顶窗(4)、内合顶窗(5)送入到镀膜平台(2)上,所述镀膜炉(1)内还设置有位于镀膜平台四周的膜料(7),所述离子源(6)能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上;所述加热保温炉(3)内设置有加热盘管(8)。
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