[实用新型]一种新型圆柱直流磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201420747158.0 | 申请日： | 2014-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN204281850U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 郭涛;蔡云锋;龙腾;杨东恒 | 申请（专利权）人： | 深圳市莱恩顿纳米技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人： | 朱业刚;谭果林 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种新型圆柱直流磁控溅射靶，包括靶帽、靶体、靶座、靶座法兰、传动装置、绝缘装置、减速电机；其中靶帽设置在靶体顶端，该靶体另一端与靶座连接；所述靶座内部设有传动装置，靶座外圆周面上设有靶座法兰；所述靶座与靶座法兰之间设有绝缘装置，其中靶座法兰通过立柱与电机安装架连接，该电机安装架上设有减速电机。本实用新型通过在靶座与靶座法兰之间设置绝缘装置，可有效免因靶座在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形，进而避免靶座与靶材发生短路；同时通过使用减速电机降低靶材两端溅射速率，使磁场强度更均匀，不易在靶材上出现刻蚀的环形沟道，提高靶材利用率，也使溅射形成的膜层更为均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 圆柱 直流 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种新型圆柱直流磁控溅射靶，包括靶帽、靶体、靶座、靶座法兰、传动装置、绝缘装置、减速电机；其中靶帽设置在靶体顶端，该靶体另一端与靶座连接；其特征是，所述靶座内部设有传动装置，靶座外圆周面上设有靶座法兰；所述靶座与靶座法兰之间设有绝缘装置，其中靶座法兰通过立柱与电机安装架连接，该电机安装架上设有减速电机。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市莱恩顿纳米技术有限公司，未经深圳市莱恩顿纳米技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420747158.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于电子束物理气相沉积制备涂层的夹具
- 下一篇：用于齿轮锻造的热处理装置
- 同类专利
- 专利分类
