[实用新型]一种LVDT新型的线圈绕制结构有效
申请号: | 201420751677.4 | 申请日: | 2014-12-03 |
公开(公告)号: | CN204332574U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 刘彦君;肖岸飞;梁国栋;王鲲鹏 | 申请(专利权)人: | 武汉航空仪表有限责任公司 |
主分类号: | H01F5/02 | 分类号: | H01F5/02;H01F41/06;G01B7/02 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 杜永保 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型属于机械设计技术领域,涉及一种LVDT新型的线圈绕制结构。本实用新型包括线圈组件、壳体、底盖、铁芯、连杆;线圈组件包括骨架、初级线圈、次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ组成;初级线圈均匀分布在骨架每个线槽内;次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ绕制在初级线圈上,且次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ以骨架轴向中心对称分布,每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增;骨架通过滚包的方式与底盖、壳体紧固。本实用新型解决了提高LVDT线位移传感器线性范围的线圈绕制结构,其结构简单可靠、性能优良。 | ||
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【主权项】:
一种LVDT新型的线圈绕制结构,其特征为:所述结构包括线圈组件、壳体(4)、底盖(8)、铁芯(5)、连杆(6);线圈组件包括骨架(3)、初级线圈(2)、次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)组成;初级线圈(2)均匀分布在骨架(3)每个线槽内;次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)绕制在初级线圈(2)上,且次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)以骨架(3)轴向中心对称分布,每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增;壳体(4)通过两端挤压变形的收口方式与底盖(8)、骨架(3)紧固;铁芯(5)通过螺纹与连杆(6)连接,可在骨架(3)中心孔内自由移动。
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