[实用新型]一种用于靶材喷涂的真空罐体有效
申请号: | 201420816656.6 | 申请日: | 2014-12-22 |
公开(公告)号: | CN204325472U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 王志强;张斐;罗建冬;罗文富 | 申请(专利权)人: | 厦门映日新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人: | 方惠春 |
地址: | 361000 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种用于靶材喷涂的真空罐体,所述真空罐体包括罐体及多个安全阀,所述罐体两端分别具有靶材进、出口,而所述靶材进、出口位置均与密封门配合,从而形成密封罐体;而所述多个安全阀分别安装在靶材进、出口上端,从而形成对罐体内低压状态喷涂的保护结构。本实用新型在靶材喷涂的真空罐体上设置安全阀,从而确保生产的安全;另一方面能保证靶材只预订低压真空环境内进行喷涂,从而确保靶材品质,同时解决罐体内气压过大存在的风险,提高工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 喷涂 真空 | ||
【主权项】:
一种用于靶材喷涂的真空罐体,其特征在于:所述真空罐体包括罐体及多个安全阀,所述罐体两端分别具有靶材进、出口,而所述靶材进、出口位置均与密封门配合,从而形成密封罐体;而所述多个安全阀分别安装在靶材进、出口上端,从而形成对罐体内低压状态喷涂的保护结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门映日新材料科技有限公司,未经厦门映日新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420816656.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮传动装置
- 下一篇:稳固型铜带收卷盘
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆