[实用新型]掠角反应沉积设备

摘要

本实用新型公开掠角反应沉积设备，高真空腔室与腔室门活动连接，在高真空腔室的一侧设置有高真空挡板阀，高真空挡板阀与第一泵的入口相连，第一泵的出口通过第一管路与第二泵相连，高真空腔室通过第二管路与第二泵相连，在高真空腔室中设置样品操纵杆、膜厚监测仪、真空表、活性气体微调阀和电子束轰击蒸发源，样品操纵杆贯穿高真空腔室的室壁并密封，位于高真空腔室内的一端设置固定夹，膜厚监测仪贯穿高真空腔室的室壁并密封，位于高真空腔室内的一端设置膜厚监测仪探头，电子束轰击蒸发源设置在高真空腔室的底部，并与靶材相连。本实用新型结构简单，成本低廉，操作简单，能够制备较高质量的多孔结构薄膜材料。

主权项

掠角反应沉积设备，其特征在于，包括高真空腔室、第一泵、第二泵、样品操纵杆、活性气体微调阀、电子束轰击蒸发源和膜厚监测仪，其中：所述高真空腔室与腔室门活动连接，在高真空腔室的一侧设置有高真空挡板阀，所述高真空挡板阀与第一泵的入口相连，第一泵的出口通过第一管路与第二泵相连，所述高真空腔室通过第二管路与第二泵相连，在所述高真空腔室上设置样品操纵杆、活性气体微调阀、电子束轰击蒸发源、真空表和膜厚监测仪；所述活性气体微调阀通过管路与外部储气罐相连；所述高真空腔室为球形，样品操纵杆贯穿高真空腔室的室壁并密封，位于高真空腔室内的一端设置固定夹，所述样品操纵杆能够进行360度角的旋转，进而带动固定夹进行旋转，所述样品操纵杆沿高真空腔室径向进行直线运动，以将固定夹稳定在球形高真空腔室的中心位置；所述膜厚监测仪贯穿高真空腔室的室壁并密封，位于高真空腔室内的一端设置膜厚监测仪探头，所述膜厚监测仪沿高真空腔室径向进行直线运动，以将膜厚监测仪探头稳定在球形高真空腔室的中心位置；所述电子束轰击蒸发源设置在高真空腔室的底部，并与靶材相连，所述靶材正对球形高真空腔室的中心位置。