[发明专利]用于功率半导体装置的场板结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480002396.1 申请日: 2014-11-26
公开(公告)号: CN104737293A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 单建安;伊夫蒂哈尔.艾哈迈德;伍震威 申请(专利权)人: 伍震威
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40;H01L21/28
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 胡坚
地址: 中国香港清水湾香港科技*** 国省代码: 中国香港;81
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种功率半导体装置的结构和制造方法。提供位于在功率半导体装置的表面处的金属电极(21、22、23)之间的薄半绝缘场板(32、33、34)结构。所述薄半绝缘场板(32、33、34)通过在金属化之前进行沉积并且在所述金属化之后进行退火而形成。可以用于横向功率半导体装置和垂直功率半导体装置中。
搜索关键词: 用于 功率 半导体 装置 板结 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半绝缘场板结构,其包括在氧化硅(31)上方并且在功率半导体装置的表面处的金属电极(21、22、23)之间的半绝缘层(34)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伍震威;,未经伍震威;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480002396.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top