[发明专利]图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件在审
| 申请号： | 201480003097.X | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN104797982A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 吉留正洋;山中司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案形成方法，其包含：在基板上涂布溶剂(S)的步骤；在涂布有溶剂(S)的所述基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；及利用包含有机溶剂的显影液对进行了曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影而形成负型图案的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 电子元件 制造 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其包含：‑在基板上涂布溶剂(S)的步骤；‑在涂布有溶剂(S)的所述基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；‑对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；及‑利用包含有机溶剂的显影液对进行了曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影而形成负型图案的步骤。
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