[发明专利]用于制备SiO的设备与方法有效
申请号: | 201480003273.X | 申请日: | 2014-05-16 |
公开(公告)号: | CN104854027B | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 郑相允;郑汉那;朴哲凞;朴致成;金宰贤 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | C01B33/113 | 分类号: | C01B33/113;B01J19/18 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人: | 许向彤,陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种用于制备SiO的设备与方法,其可通过连续收集SiO来降低SiO的制备成本。该用于制备SiO的设备包括反应单元,该反应单元被配置为接收SiO制备材料并通过加热使所接收的材料发生反应来生成SiO气体;以及收集单元,该收集单元被配置为将其内部温度保持为低于该反应单元的内部温度,该收集单元包括位于其内部空间中的旋转部件,其中该收集单元通过将由该反应单元生成的SiO气体经由形成于其至少一侧上的入口导入并使所导入的SiO气体沉积于该旋转部件的表面上来收集SiO沉积物。 | ||
搜索关键词: | 用于 制备 sio 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备SiO的设备,包括:反应单元,所述反应单元被配置为接收SiO制备材料并通过加热使所接收的材料发生反应来生成SiO气体;以及收集单元,所述收集单元被配置为将其内部温度保持为低于所述反应单元的内部温度,所述收集单元包括位于其内部空间中的旋转部件,其中,所述收集单元通过将由所述反应单元生成的SiO气体经由在所述收集单元的至少一侧形成的入口导入并使所导入的SiO气体沉积在所述旋转部件的表面上来收集SiO沉积物,并且其中,所述收集单元还包括移除部件并且通过由所述移除部件所注射的气体来控制所述收集单元的内部温度,所述移除部件用于通过将气体注射至所述旋转部件的表面上来将所述SiO沉积物从所述旋转部件的表面分开。
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