[发明专利]相变存储器有效

专利信息
申请号: 201480003525.9 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN105247677B 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 缪向水;余念念;童浩;徐荣刚;赵俊峰;张树杰 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 马爽
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种相变存储器,包括存储节点,存储节点包括下电极(1),用于连接衬底;第一相变层(2),位于下电极之上;第二相变层(3),层叠于第一相变层上;上电极(4),位于第二相变层上;存储节点根据第一相变层和第二相变层不同的阻值来存储不同的数据。由于在第二相变层和第一相变层之间不设置隔离层,不仅降低制作存储节点的工艺复杂度,也降低了存储节点的生产成本。
搜索关键词: 相变 存储器
【主权项】:
一种相变存储器,包括存储节点,其特征在于,所述存储节点包括:下电极,用于连接衬底;第一相变层,位于所述下电极之上,所述第一相变层在第一写电压的作用下呈现第一低阻值以及第一高阻值;第二相变层,层叠于所述第一相变层之上,所述第二相变层在第二写电压的作用下呈现第二低阻值和第二高阻值,其中,所述第二写电压与所述第一写电压不同;所述第一相变层的材料与所述第二相变层的材料不同,所述第二相变层的厚度小于所述第一相变层的厚度,所述第二相变层的相变温度高于所述第一相变层的相变温度,所述第二相变层和所述第一相变层中至少一个为纳米薄膜;上电极,位于所述第二相变层之上;所述存储节点根据所述第一相变层和所述第二相变层呈现的不同阻值存储不同的数据;第三相变层,层叠于所述第二相变层之上,位于所述第二相变层与所述上电极之间,所述第三相变层在第三写电压的作用下呈现第三低阻值和第三高阻值,所述第三相变层的材料与所述第一相变层的材料不同,所述第三相变层的材料与所述第二相变层的材料不同,所述第三相变层的厚度小于所述第二相变层的厚度,所述第三相变层的相变温度高于所述第二相变层的相变温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480003525.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top