[发明专利]用于石墨烯形成的方法和系统有效
申请号: | 201480004713.3 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN104919077B | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 大卫·A·博伊德;乃-昌·叶 | 申请(专利权)人: | 加州理工学院 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人: | 白云,郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种形成石墨烯的方法包括将基底放置在处理室中并且将包括氢气和氮气的清洁气体引入到处理室中。该方法还包括将碳源引入到处理室中并且在处理室中引发微波等离子体。该方法还包括使基底经受清洁气体和碳源的流动持续预定的时间段以形成石墨烯。 | ||
搜索关键词: | 用于 石墨 形成 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种石墨烯结构,包括:铜基底;和单一的单层的石墨烯,其被布置于所述铜基底上且具有小于或等于100nm2的测量面积,其中所述单一的单层的石墨烯以高度变化为特征,所述高度变化以纳米来测量,使得所述高度变化与所述测量面积的比小于2.5×10‑2每纳米。
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