[发明专利]用于化学机械平坦化后的基板清洗的方法及设备

摘要

提供一种在化学机械平坦化(CMP)之后清洗基板的方法及设备。该设备包含壳体；可在第一轴上旋转并被配置以将基板保持在大致垂直的方向的基板固持件；具有垫保持表面的第一垫固持件，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第一垫固持件可在第二轴上旋转，该第二轴平行于该第一轴设置；可被操作来相对于该基板固持件移动该垫固持件的第一致动器，以改变该第一轴和该第二轴之间的距离；以及设置于该壳体中的第二垫固持件，该第二垫固持件具有垫保持表面，该垫保持表面以平行和间隔开的关系面向该基板固持件，该第二垫固持件可在第三轴上旋转，该第三轴平行于该第一轴和该第二轴。

主权项

一种颗粒清洗模块，包含：壳体；基板固持件，位于所述壳体中，所述基板固持件被配置以将基板保持在竖直的方向，所述基板固持件可在第一轴上旋转；第一垫固持件，位于所述壳体中，所述第一垫固持件具有垫保持表面，所述垫保持表面以平行和间隔开的关系面向所述基板固持件，所述第一垫固持件可在第二轴上旋转，所述第二轴平行于所述第一轴设置；第一致动器，可被操作来相对于所述基板固持件移动所述第一垫固持件，以改变界定于所述第一垫固持件和所述基板固持件之间的距离；第一横向致动器，可被操作来通过所述第一轴，在所述基板固持件的主表面各处线性移动所述第一垫固持件；第二垫固持件，设置于所述壳体中，所述第二垫固持件具有垫保持表面，所述垫保持表面以平行和间隔开的关系面向所述基板固持件，所述第二垫固持件可在第三轴上旋转，所述第三轴平行于所述第一轴和所述第二轴；以及第二横向致动器，可被操作来平行于第一垫固持件的移动而不与所述第一轴交叉地，在所述基板固持件的所述主表面各处线性移动所述第二垫固持件。