[发明专利]用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该组合物的蚀刻方法、多层膜配线的制造方法、基板在审
| 申请号： | 201480007128.9 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN104968838A | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 安谷屋智幸;夕部邦夫;玉井聪 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26;C11D17/08;C23F1/26;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该液体组合物蚀刻含有铜和钛的多层膜的方法、使用该蚀刻方法的多层膜配线的制造方法、以及设置有利用该制造方法制造的多层膜配线的基板。本发明中使用的液体组合物包含(A)马来酸根离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氟化物离子供给源，且液体组合物的pH值为0～7。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 含有 多层 液体 组合 使用 方法 膜配线 制造 基板 | ||
【主权项】：
一种液体组合物，其为用于蚀刻多层膜的液体组合物，所述多层膜包含：由铜或含铜作为主成分的化合物组成的层和由钛或含钛作为主成分的化合物组成的层，所述液体组合物包含：(A)马来酸根离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氟化物离子供给源，且pH值为0～7。
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