[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法和用于其的多元酚衍生物有效
| 申请号： | 201480008013.1 | 申请日： | 2014-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN104995559B | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 越后雅敏;山川雅子 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C07C43/20;C07C43/257;C07C69/96;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供耐热性优异、对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、且能够赋予良好的抗蚀图案形状的抗蚀剂组合物。这样的抗蚀剂组合物含有下述通式(1)或(2)所示的化合物。 |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 用于 多元 衍生物 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂组合物，其含有下述式(1)或式(2)所示的化合物，![]()
式(1)和式(2)中，R1为单键、或碳数1～30的2n价烃基，该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳数6～30的芳香族基团，其中，所述环式烃基不包括芳香族基团，R2分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团，同一萘环或苯环中R2可以彼此相同也可以不同，R2的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团，n为1～4的整数，式(1)和式(2)中的重复单元的结构式可以彼此相同也可以不同，式(1)中，m1分别独立地为1～7的整数，式(2)中，X分别独立地为氧原子或硫原子，m2分别独立地为1～6的整数，q分别独立地为0或1。
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