[发明专利]用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO2-SiO2玻璃构成的坯料及其制造方法有效
| 申请号： | 201480008162.8 | 申请日： | 2014-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN104995557B | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | S.托马斯;K.贝克;S.奥克斯 | 申请（专利权）人： | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
| 主分类号： | G03B19/14 | 分类号： | G03B19/14;G03F7/20;C03B32/00;C03B20/00;C03C3/06;G02B5/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周铁;石克虎 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为了提供用于EUV‑光刻中的镜面基材的由TiO2‑SiO2玻璃构成的坯料，其中对于优化热膨胀系数分布和因此过零温度TZC分布的调适需求是小的，在920℃至970℃的假想温度Tf平均值下，所述TiO2‑SiO2玻璃具有其过零温度TZC对于假想温度Tf的依赖性，其以微商dTzc/dTf表示小于0.3。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 中的 基材 tio sub sio 玻璃 构成 坯料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.用于EUV‑光刻中的镜面基材的由TiO2‑SiO2玻璃构成的坯料，其特征在于，在920℃至970℃的假想温度Tf平均值下，所述TiO2‑SiO2玻璃具有其过零温度TZC对于假想温度Tf的依赖性，其以微商dTzc/dTf表示小于0.3，所述坯料通过下面方法获得，所述方法包括以下方法步骤：(a)通过含硅和钛的起始物质的火焰水解，产生由具有第一氧化钛浓度的 SiO2构成的第一多孔性烟灰体，(b)干燥和烧结所述第一多孔性烟灰体，从而获得具有第一氧化钛浓度的TiO2‑SiO2玻璃，其中将平均羟基含量调至小于300重量ppm，(c)在均匀化过程中将所述TiO2‑SiO2玻璃均匀化，其中在起氧化作用的气氛中将所述TiO2‑SiO2玻璃加热至大于2000℃的温度，在此软化和变形，从而出现小于5x1016分子/cm3的平均氢浓度，(d)将具有小于300重量ppm的平均羟基含量和小于5x1016分子/cm3的平均氢浓度的所述TiO2‑SiO2玻璃模制为模制体，并且(e)将所述模制体退火，从而在920℃至970℃的平均假想温度Tf下，使所述TiO2‑SiO2玻璃具有其过零温度TZC对于假想温度Tf的依赖性，其以微商dTzc/dTf表示小于0.3。
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