[发明专利]用于垂直磁性记录介质中的软磁性膜层的CoFe系合金和溅射靶材

摘要

本发明提供了用于垂直磁性记录介质中的软磁性膜层的CoFe系合金和溅射靶材。该合金是一种用于垂直磁性记录介质中的软磁性膜层的合金，其中所述合金包含：选自Ge、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir和Pt中的一种以上；选自Sc、Y、镧系元素(原子序数57至71)、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Mo、W和B中的一种以上；和余量的Co和Fe及不可避免的杂质；并且按原子％计满足全部下式(a)至(d)：(a)0.1％≤TCR≤10％；(b)5％≤TAM≤25％；(c)13％≤TCR/2+TAM+TNM≤25％；和(d)0≤Fe％/(Fe％+Co％)≤0.80。

主权项

1.一种用于垂直磁性记录介质中的软磁性膜层的合金，其中所述合金包含：选自Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir和Pt中的一种以上；选自Sc、Y、镧系元素即原子序数为57至71的元素、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Mo、W和B中的一种以上；和余量的Co和Fe及不可避免的杂质；并且按原子％计满足全部下式(a)至(d)：(a)0.1％≤TCR≤8％；(b)5％≤TAM≤25％；(c)13％≤TCR/2+TAM+TNM≤25％；和(d)0≤Fe％/(Fe％+Co％)≤0.80在所述式(a)至(d)中TCR＝Ru％+Rh％+Pd％+Re％+Os％+Ir％+Pt％；TAM＝Sc％+Y％+镧系元素的合计％+Ti％+Zr％+Hf％+V％+Nb％+Ta％+Mo％+W％+B％/2；且TNM＝C％+Al％+Si％+P％+Cr％+Mn％+Ni％/3+Cu％/3+Zn％+Ga％+Sn％。