[发明专利]用于三维图案形成装置的光刻模型有效
| 申请号： | 201480009909.1 | 申请日： | 2014-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN105074575B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本文公开了一种计算机执行方法，用于模拟在光刻投影设备中包括一个或更多个特征的图案形成装置的散射辐射场，所述方法包括：使用所述一个或更多个特征的特征元素的一个或更多个散射函数确定所述图案形成装置的散射函数；其中一个或更多个特征中的至少一个特征为三维特征，或者所述一个或更多个散射函数表征在所述特征元素上多个入射角的入射辐射场的散射。 | ||
| 搜索关键词： | 散射函数 图案形成装置 特征元素 光刻投影设备 计算机执行 入射辐射 三维特征 三维图案 散射辐射 形成装置 入射角 散射 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种计算机执行方法，用于模拟在光刻投影设备中包括一个或更多个特征的图案形成装置的散射辐射场，所述方法包括：使用所述一个或更多个特征的特征元素的一个或更多个散射函数确定所述图案形成装置的散射函数；其中所述一个或更多个散射函数表征在所述特征元素上多个入射角的入射辐射场的散射，且其中所述方法还包括选择在图案形成装置和投影光学装置之间的光刻投影设备的光路上的平面作为投影光学装置的物面，使得全局图案偏移基本为零。
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