[发明专利]黑矩阵基板有效
申请号: | 201480010592.3 | 申请日: | 2014-03-04 |
公开(公告)号: | CN105026963B | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 西山雅仁;的羽良典;野中晴支;井上欣彦 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C08F2/44;C08F2/50;G02F1/1335;G03F7/004;H01L51/50;H05B33/12 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 黄媛,段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种虽然具有充分的光密度,但是反射率低的形成有树脂黑矩阵的树脂黑矩阵基板。本发明是一种黑矩阵基板,依次具有透明基板、遮光层(A)及遮光层(B),遮光层(A)的每单位厚度的光密度比遮光层(B)的每单位厚度的光密度低,遮光层(A)包含遮光材料和折射率1.4~1.8的微粒。本发明的黑矩阵基板因为其特征而对于滤色器、液晶显示装置有用。 | ||
搜索关键词: | 矩阵 | ||
【主权项】:
一种黑矩阵基板,依次具有透明基板、遮光层A和遮光层B,遮光层A的每单位厚度的光密度比遮光层B的每单位厚度的光密度低,遮光层A含有遮光材料和折射率1.4~1.8的微粒,折射率1.4~1.8的微粒是选自氧化铝、氧化硅、硫酸钡、硫酸钙、碳酸钡、碳酸钙、碳酸镁、碳酸锶以及偏硅酸钠中的1种以上的微粒。
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