[发明专利]黑矩阵基板有效

专利信息
申请号: 201480010592.3 申请日: 2014-03-04
公开(公告)号: CN105026963B 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 西山雅仁;的羽良典;野中晴支;井上欣彦 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;C08F2/44;C08F2/50;G02F1/1335;G03F7/004;H01L51/50;H05B33/12
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 黄媛,段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供一种虽然具有充分的光密度,但是反射率低的形成有树脂黑矩阵的树脂黑矩阵基板。本发明是一种黑矩阵基板,依次具有透明基板、遮光层(A)及遮光层(B),遮光层(A)的每单位厚度的光密度比遮光层(B)的每单位厚度的光密度低,遮光层(A)包含遮光材料和折射率1.4~1.8的微粒。本发明的黑矩阵基板因为其特征而对于滤色器、液晶显示装置有用。
搜索关键词: 矩阵
【主权项】:
一种黑矩阵基板,依次具有透明基板、遮光层A和遮光层B,遮光层A的每单位厚度的光密度比遮光层B的每单位厚度的光密度低,遮光层A含有遮光材料和折射率1.4~1.8的微粒,折射率1.4~1.8的微粒是选自氧化铝、氧化硅、硫酸钡、硫酸钙、碳酸钡、碳酸钙、碳酸镁、碳酸锶以及偏硅酸钠中的1种以上的微粒。
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