[发明专利]图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法以及化合物

摘要

本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。本发明的上述技术特征确保在形成超细图案时，粗糙度性能及散焦性能高且分辨率及曝光宽容度卓越。

主权项

1.一种图案形成方法，包括：(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由以下式(I‑1)表示的化合物A、不同于所述化合物A且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物B、以及不与由所述化合物A生成的酸反应且能够通过所述化合物B生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)；(ii)使所述膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影从而形成负型图案的步骤：其中R₁及R₁'各独立地表示单价有机基团，Y表示‑SO₂‑或‑CO‑，且X⁺表示反荷阳离子。