[发明专利]光学镜、X射线荧光分析装置以及X射线荧光分析方法在审

专利信息
申请号: 201480011675.4 申请日: 2014-02-27
公开(公告)号: CN105008905A 公开(公告)日: 2015-10-28
发明(设计)人: V·勒西格 申请(专利权)人: 赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;G01B15/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李隆涛
地址: 德国辛*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于X射线荧光分析装置,包括X射线源(10),用来利用X射束(19)辐照试样(15);X射线探测器(17),用于测量由所述试样(15)发出的X射线荧光辐射(16);以及摄像机(25),用于经由光学镜(20)产生试样(15)的被辐照的测量位置(29)的光学控制图像(26),所述光学镜在所述X射线源(10)的射束路径中成角度地布置,所述光学镜包括载体(21),在所述载体(21)上设置有镜层(28)。为了创建X射线荧光装置,由其真实控制记录待分析试样、尤其采用的表面点是可行的,本发明提供了光学镜(20)具有用于X射束(19)的通窗(23),其由载体(21)中的开口(23)以及形成镜层(28)的膜(22)形成,所述膜在载体(21)的外表面上覆盖开口(23)。
搜索关键词: 光学 射线 荧光 分析 装置 以及 方法
【主权项】:
一种用于X射线荧光分析装置的光学镜,其中,所述X射线荧光分析装置具有X射线源(10),用来利用X射束(19)辐照试样(15);X射线探测器(17),用于测量由所述试样发出的X射线荧光辐射(16);以及摄像机(25),用于经由所述光学镜(20)产生试样(15)的被辐照的测量位置(29)的光学控制图像(26),所述光学镜在所述X射线源(10)的射束路径中成角度地布置,所述光学镜包括载体(21),在所述载体(21)上设置有镜层(28),其特征在于所述光学镜(20)具有用于X射束(19)的通窗(23),其中所述通窗由所述载体(21)中的凹口(23)以及在所述载体(21)的外侧上覆盖所述凹口(23)的膜(22)形成,所述膜形成所述镜层(28)。
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