[发明专利]溅射装置有效
| 申请号： | 201480011904.2 | 申请日： | 2014-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN105026609B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | D.T.克劳利;P.L.摩斯;J.R.杰曼 | 申请（专利权）人： | 零件喷涂公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵华伟;董均华 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于旋转靶材阴极的磁控管组件包括刚性支撑结构；磁棒结构，所述磁棒结构可移动地附接到所述刚性支撑结构；和至少一个致动机构，所述至少一个致动机构耦接到所述刚性支撑结构并被配置以改变所述磁棒结构与可旋转靶筒的表面的距离。所述磁控管组件也包括位置指示机构，所述位置指示机构可操作以测量所述磁棒结构相对于所述可旋转靶筒的所述表面的位置。通信设备被配置以从所述磁控管组件的外部接收命令信号并将信息信号传输到所述磁控管组件的外部。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁控管组件，其包括：刚性支撑结构；磁棒结构，所述磁棒结构可移动地附接到所述刚性支撑结构；至少一个致动机构，所述至少一个致动机构耦接到所述刚性支撑结构并被配置以改变所述磁棒结构与可旋转靶筒的表面的距离；通信设备，所述通信设备被配置以从所述磁控管组件的外部接收命令信号并将信息信号传输到所述磁控管组件的外部；和电源，所述电源被配置以提供能量给致动机构，所述电源完全自包含在磁控管组件的体积内。
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