[发明专利]193NM激光器及检验系统有效

专利信息
申请号: 201480013519.1 申请日: 2014-01-24
公开(公告)号: CN105191026B 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 勇-霍·亚历克斯·庄;J·约瑟夫·阿姆斯特朗;弗拉基米尔·德里宾斯基;邓宇俊;约翰·费尔登 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01S3/108 分类号: H01S3/108;H01S3/13
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于产生大约193.4nm的输出波长的激光器包含基波激光器、光学参数产生器、四次谐波产生器及混频模块。耦合到所述基波激光器的所述光学参数产生器可产生经下变频信号。可耦合到所述光学参数产生器或所述基波激光器的所述四次谐波产生器可产生四次谐波。耦合到所述光学参数产生器及所述四次谐波产生器的所述混频模块可产生处于等于所述四次谐波与所述经下变频信号的频率的两倍的和的频率的激光输出。
搜索关键词: 193 nm 激光器 检验 系统
【主权项】:
1.一种用于产生大约193.4nm的输出波长的激光器,所述激光器包括:基波激光器;光学参数产生器,其耦合到所述基波激光器,用于产生经下变频信号,从而在下变频过程中仅部分基波光被消耗;四次谐波产生器,其耦合到所述光学参数产生器,以使得所述基波光的未被消耗部分从所述光学参数产生器引导到所述四次谐波产生器,用于产生四次谐波;及混频模块,其耦合到所述光学参数产生器及所述四次谐波产生器,用于产生具有等于所述四次谐波与所述经下变频信号的频率的两倍的和的频率的激光输出,其中所述混频模块包括两个非线性晶体,第一非线性晶体经配置以通过第II型转换而产生等于所述四次谐波与经下变频信号的所述频率的和的频率,且第二非线性晶体经配置以通过第I型转换而产生等于所述四次谐波与所述经下变频信号的所述频率的所述两倍的所述和的所述频率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科磊股份有限公司,未经科磊股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480013519.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top